武汉等离子体技术研究所

企业名称：武汉等离子体技术研究所

所属网库：武汉电工网库

联系人：王可先生

职位：销售经理

员工人数：11 - 50 人

主营产品：电子元器件等离子体渗氮设备辉光离子氮化炉等离子体渗氮用大功率脉冲电源

公司地址：中国湖北武汉市武汉市江岸区二七小路22号

联系电话：86-027-82930191

电子邮箱：kwang0858@vip.163.com

邮政编码：430012

移动电话：13507....点击此处可查看手机号

公司传真：86-027-82930191

注册资金：未知

经营模式：集体企业 ;生产加工

主营行业：其他节能设备工业电炉

网址:https://dg.hc23.com/company/70430.html

武汉等离子体技术研究所是从事等离子体技术理论、工艺试验及设备制造的专业化研究所。我们所的宗旨是：“以不断锐意进取的创新精神追求产品的完美；以极其认真负责的态度雕琢产品的质量；我们的研究和工作始终将您放在第一位”。我所汇萃了一大批长期从事等离子体技术研究和应用的专业人才。现有职工三十多人，其中拥有高、中级职称员工占职工总数的70％以上。既有我国最早从事等离子体氮化研究的开拓者，也不乏稍后成长起来青年专家学者。拥有理论知识精、动手能力强的一批专家、教授和工程师，既是我所的骄傲，也是值得您信赖的保证。我所除提供用户所需要的等离子体理论和技术的咨询服务外，亦可根据用户的需要设计、开发相关产品。承蒙各界人士的厚爱，我们生产各类等离子体渗氮设备，以优美的外观，良好的性能，可靠的质量以及周到的售后服务获得了用户的一致赞誉。我们采用最新功率开关器件IGBT研制的具有独创性并具国内先进水平的大功率等离子体渗氮用脉冲电源通过武汉市科学技术委员会组织的鉴定。该电源与常规直流电源相比较，节能在30％以上，有利于在深孔、窄缝、微孔内进行离子渗氮。并可与多弧离子镀膜设备、磁控溅射设备及等离子体增强化学气相沉积（PCVD）等设备配套使用。其成果获“武汉市科技进步二等奖”。经专家评审，被认定为“1998年度国家级新产品。”目前我所制造的等离子体渗氮设备市场占有率达70%。而新型LDMC脉冲电源等离子体渗氮设备的市场占有率达90%。我所现已开发的产品有： * LD系列、LDMC系列等离子体氮化设备：适用于各类可氮化钢、铸铁等，以提高材料的表面硬度、抗疲劳、抗腐蚀、耐磨及减噪等机械性能。 * 多弧离子镀膜设备：适用于在各类工具钢表面涂镀TiN；TiC；TiNC；ZrC等各种硬质膜，能极大的提高工磨具的使用寿命，（例如：可提高钻头的使用寿命3-8倍，铣刀的使用寿命1-3倍。）亦可用于金属表面涂镀装饰膜，以满足人们对装饰的需求。 * PCVD化学气相沉积设备：适用于各类工磨具的化学气相沉积，可涂镀TiNC膜，以提高工磨具的使用寿命。 * 等离子体渗金属设备：用于在金属表面渗入各类难熔金属，以获得不同的良好的机械性能要求。欢迎您索取详细资料、加强联系、合作。

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